(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202123396914.9 (22)申请日 2021.12.3 0 (73)专利权人 河南微纳半导体科技有限公司 地址 471000 河南省洛阳市西工区中州中 路451号2幢1-916 (72)发明人 张伟　 (74)专利代理 机构 河南商盾云专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 41199 专利代理师 任铁男 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01) B08B 3/06(2006.01) B08B 3/10(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种新型基底 表面清洗装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种新型基底表面清洗 装置， 涉及半导体工艺技术领域， 包括主体， 所述 主体的内部开设有清洗槽， 且清洗槽的内侧顶部 连接有转盘， 所述转盘的底部安装有电动机， 且 转盘的顶部连接有滤筒， 所述主体的上方安装有 盖板， 且盖板的两侧均连接有套板， 凹槽， 所述凹 槽开设在盖板的一端两侧， 且盖板的正面中部安 装有限位板， 所述凹槽的内部插接有基底放置 框。 本实用新型中， 通过设置有电动伸缩 杆、 盖板 及基底放置框的作用下， 使 得操作员在进行基底 清洗工作时， 通过启动电动伸缩杆， 将基底放置 框在主体的内部进行上、 下运动工作， 有利于提 高装置安全性， 避免在放置或取拿半导体基底 时， 手部触碰溶剂， 影响身体健康。 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 CN 216501116 U 2022.05.13 CN 216501116 U 1.一种新型基底 表面清洗装置， 其特 征在于， 包括： 主体(1)， 所述主体(1)的内部开设有清洗槽(5)， 且清洗槽(5)的内侧顶部连接有转盘 (3)， 所述转盘(3)的底部安装有电动机(2)， 且转盘(3)的顶部连接有滤筒(4)， 所述主体(1) 的上方安装有盖 板(7)， 且盖 板(7)的两侧均连接有 套板(12)； 凹槽(8)， 所述凹槽(8)开设在盖板(7)的一端两侧， 且盖板(7)的正面中部安装有限位 板(9)， 所述凹槽(8)的内部插接有基底放置框(6)， 且基底放置框(6)的侧面安装有横杆 (15)， 所述横杆(15)的两端均连接有阻尼旋转块(14)， 且横杆(15)的外壁安装有延长板 (16)； 放置槽(10)， 所述放置槽(10)开设在主体(1)的外壁两侧， 且放置槽(10)的内部安装有 电动伸缩杆(11)， 所述电动伸缩杆(11)的外部与套板(12)的内部相连接， 且套板(12)的顶 部两侧均安装有照明灯(13)， 所述照明灯(13)的顶部与盖板(7)的底部相连接， 所述主体 (1)的外部一侧开设有出 液口(17)。 2.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置， 其特征在于： 所述转盘(3)通过 电动机(2)与主体(1)构成旋转结构， 且转盘(3)的外 部设置有保护套。 3.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置， 其特征在于： 所述滤筒(4)通过 螺栓与转盘(3)构成可拆卸结构， 且滤筒(4)的直径大于基底放置 框(6)的直径。 4.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置， 其特征在于： 所述基底放置框 (6)通过凹槽(8)与盖 板(7)构成活动结构， 且基底放置 框(6)的顶部设置有两组L型板 。 5.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置， 其特征在于： 所述盖板(7)通过 电动伸缩杆(1 1)与主体(1)构成升降结构， 且盖 板(7)的宽度大于主体(1)的宽度。 6.根据权利要求1所述的一种新型基底表面清洗装置， 其特征在于： 所述延长板(16)通 过焊接与横杆(15)构成一体化结构， 且横杆(15)与基底放置 框(6)之间为活动连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216501116 U 2一种新型基底表面清洗装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及半导体工艺 技术领域， 尤其涉及一种新型基底 表面清洗装置 。 背景技术 [0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料， 半导体在集成电路、 消 费电子、 通信系统、 光伏发电、 照明、 大功 率电源转换等领域 都有应用， 半导体器件的集成度 越来越高， 对基底 表面的清洗要求 也越来也越高。 [0003]现有的半导体基底一般是在容器内， 使用较强腐蚀性和氧化性溶剂， 如H2SO4、 H2O2、 DHF等溶剂， 对基底表 面的杂质粒子进 行清洗工作， 半导体基底完成清洗工作后， 需要 操作员手动将放置框从容器中取出， 极容易导致操作员的手部触碰到化学溶剂， 影响操作 员的身体健康。 实用新型内容 [0004]本实用新型的目的是为了解决现有的半导体基底一般是在容器内， 使用较强腐蚀 性和氧化性溶剂， 如H2SO4、 H2O2、 DHF等溶剂， 对基底表面的杂质粒子进行清洗工作， 半导体 基底完成清洗工作后， 需要操作员手动将放置框从容器中取出， 极容易导致操作员的手部 触碰到化学溶剂， 影响操作员的身体健康的缺 点， 而提出的一种新型基底 表面清洗装置 。 [0005]为了实现上述目的， 本实用新型采用了如下技 术方案： [0006]一种新型基底 表面清洗装置， 包括： [0007]主体， 所述主体的内部开设有清洗槽， 且清洗槽的内侧顶部连接有转盘， 所述转盘 的底部安装有电动机， 且转盘的顶部连接有 滤筒， 所述主体的上方安装有盖板， 且盖板的两 侧均连接有 套板； [0008]凹槽， 所述凹槽开设在盖板的一端两侧， 且盖板的正面中部安装有限位板， 所述凹 槽的内部插接有基底放置框， 且基底放置框的侧 面安装有横杆， 所述横杆的两端均连接有 阻尼旋转 块， 且横杆的外壁 安装有延长 板； [0009]放置槽， 所述放置槽开设在主体的外壁两侧， 且放置槽的内部安装有电动伸缩杆， 所述电动伸缩杆的外部与套板的内部相连接， 且套板的顶部两侧均安装有照明灯， 所述照 明灯的顶部与盖 板的底部相连接， 所述主体的外 部一侧开设有出 液口。 [0010]优选的， 所述 转盘通过电动机与主体构成旋转结构， 且转盘的外 部设置有保护套。 [0011]优选的， 所述滤筒通过螺栓与转盘构成可拆卸结构， 且滤筒的直径大于基底放置 框的直径。 [0012]优选的， 所述基底放置框通过凹槽与盖板构成活动结构， 且基底放置框的顶部设 置有两组L型板 。 [0013]优选的， 所述盖板通过电动伸缩杆与主体构成升降结构， 且盖板的宽度大于主体 的宽度。 [0014]优选的， 所述延长板通过焊接与横杆构成一体化结构， 且横杆与基底放置框之间说　明　书 1/3 页 3 CN 216501116 U 3