(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211001695.6 (22)申请日 2022.08.20 (71)申请人 浙江艾科半导体设备有限公司 地址 314400 浙江省嘉兴 市海宁市海宁经 济开发区双联路127号内12幢 (72)发明人 刘温志　沈飞　许程超　黄杰　 (74)专利代理 机构 嘉兴启帆专利代理事务所 (普通合伙) 33253 专利代理师 金亚丁 (51)Int.Cl. B08B 3/12(2006.01) B08B 1/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)发明名称 一种超声波硅片清洗 机 (57)摘要 本发明公开了硅片清洗机技术领域的一种 超声波硅片清洗机， 包括清洗箱， 所述清洗箱内 部设置有两个U型支撑架， 两个所述U型支撑架之 间设置有用于调节两个U型支撑架之间距离的调 节机构， 两个所述U型支撑架顶部均开设有呈线 性阵列分布的放置槽； 本发明通过在每次对硅片 清洗时， 利用两个U型支撑架、 限位机构和交替顶 起机构， 在超声波清洗的过程中， 交替若干硅片 的支撑、 稳固的位置， 避免硅片某个区域始终被 阻挡无法被清洗的现象， 并且避免对硅片进行夹 持， 仅利用限位方式保持硅片 的稳定和分散， 避 免对硅片造成损伤， 从而对硅片进行更为彻底的 清洗。 权利要求书2页 说明书5页 附图7页 CN 115430654 A 2022.12.06 CN 115430654 A 1.一种超声波硅片清洗机， 包括清洗箱(1)， 其特征在于： 所述清洗箱(1)内部设置有两 个U型支撑架(2)， 两个所述U型支撑架(2)之间设置有用于调节两个U型支撑架(2)之间距离 的调节机构， 两个所述U型支撑架(2)顶部均开设有 呈线性阵列分布的放置槽(3)， 所述清洗 箱(1)内侧壁上连接有用于驱动两个U型支撑架(2)前后移动的移动机构， 所述清洗箱(1)内 侧连接有用于在清洗过程中将放置在 U型支撑架(2)顶部的硅片进 行竖直限位的 限位机构， 所述清洗箱(1)内部底面连接有用于交替顶起若干硅片脱离放置槽(3)并保持硅片处于同 一高度的交替顶起机构， 所述清洗箱(1)内侧连接有用于对硅片进行超声波清洗的清洗机 构。 2.根据权利要求1所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述限位机构包括两个 U型限位架(4)， 两个所述U型限位架(4)内侧壁上均开设有与放置槽(3)同一竖直状态的限 位槽(5)， 两个所述U型限位架(4)左右两端均共同固定连接有双向伸出缸(6)， 两个所述双 向伸出缸(6)外表 面上均固定连接有第一电缸(8)， 所述第一电缸(8)固定连接在清洗箱(1) 的内侧壁上。 3.根据权利要求2所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述交替顶起机构包括 第一顶起架(9)和第二顶起架(10)， 所述第二顶起架(10)位于第一顶起架(9)的内侧， 所述 第一顶起架(9)位于两个U型支撑架(2)的下方内侧， 所述第一顶 起架(9)和第二顶起架(10) 均竖直滑动连接在清洗箱(1)的底部， 所述第一顶 起架(9)和第二顶 起架(10)底部均固定连 接有顶起杆(11)， 所述清洗箱(1)内侧壁上转动连接有第一转杆(12)， 所述第一转杆(12)外 表面上固定连接有若干凸轮(13)， 同侧 两个所述凸轮(13)的凸起位置错位布置， 所述凸轮 (13)位于顶起杆(11)的下方， 所述第一转杆(12)的左端 固定连接有第一电机(14)， 所述第 一电机(14)固定连接在清洗箱(1)的外侧壁上， 所述第一顶 起架(9)和第二顶 起架(10)底部 均连接有用于在第一顶起架(9)或第二顶起架(10)与顶起的硅片接触时打开第二顶起架 (10)和第一顶起架(9)的开 合机构。 4.根据权利要求3所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述开合机构包括清洗 箱(1)内部底面上固定连接有L型支撑架(15)， 所述L型支撑架(15)内部贯穿有与其滑动连 接的定位杆(16)， 所述定位杆(16)与顶起杆(11)外表面接触， 每个所述定位杆(16)内部均 开设有供定位杆(16)插入的定位孔(17)， 每个所述定位杆(16)后端均固定连接有第一挡板 (18)， 每个所述定位杆(16)外表面上均套设有 固定连接在第一挡 板(18)与L型支撑架(15) 之间的拉动弹簧(19)， 所述第一挡板(18)纵向滑动连接在L型支撑架(15)后侧， 所述第一顶 起架(9)和第二顶起架(10)底部均固定连接有第一挤压块(20)和第二挤压块(21)， 所述第 一挤压块(20)用于推动位于第二顶 起架(10)底部的第一挡板(18)向后移动， 所述第二挤压 块(21)用于推动位于第一顶起架(9)底部的第一挡板(18)向后移动。 5.根据权利要求1所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述调节机构包括 四个 第二丝杆(22)， 四个所述第二丝杆(22)分别固定连接在两个所述U型支撑架(2)的内端， 同 侧两个所述第二丝杆(22)外表 面上共同螺纹连接有第二双向螺纹套(23)， 所述第二双向螺 纹套(23)连接在移动机构上。 6.根据权利要求5所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述移动机构包括两个 L型固定架(24)， 两个所述L型固定架(24)均固定连接在清洗箱(1)的前侧壁上， 所述清洗箱 (1)与L型固定架(24)支架共同转动连接有驱动丝杆(25)， 两个所述 驱动丝杆(25)后端均固权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115430654 A 2定连接有第二电机(26)， 所述第二电机(26)固定连接在清洗箱(1)的后侧壁上， 两个所述第 二双向螺纹套(23)外表 面上转动连接有第一移动块(27)， 所述 驱动丝杆(25)贯穿第二双向 螺纹套(23)并与其螺纹连接， 所述清洗箱(1)的前侧开设有进出口(28)， 所述进出口(28)供 U型支撑架(2)和硅片进出清洗箱(1)， 所述进出口(28)内的嵌设有密封门(29)， 所述密封门 (29)螺纹连接在两个驱动丝杆(25)外表面上。 7.根据权利要求1所述的一种 超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述清洗机构包括多个 超声波发射器(30)， 多个所述超声波发射器(30)固定连接在清洗箱(1)的内侧壁上， 所述清 洗箱(1)内侧顶部固定连通有进水板(31)， 所述清洗箱(1)右侧底部固定连接有排水阀 (32)。 8.根据权利要求6所述的一种超声波硅片清洗机， 其特征在于： 所述进出口(28)内侧壁 上固定连接有若干第一连接板(33)， 每个所述第一连接板(33)与清洗箱(1)之间均转动连 接有两个第三丝杆(34)， 同组两个所述第三丝杆(34)共同螺纹连接有清洗刷(35)， 所述清 洗刷(35)位于相邻两个放置槽(3)之间， 每个所述第三丝杆(34)后端均固定连接有第一齿 轮(36)， 同侧若干所述第一齿轮(36)通过第一齿链(37)传动连接， 其中两个所述第三丝杆 (34)后端固定连接有第三电机(38)， 所述第三电机(38)固定连接在清洗箱(1)的后侧壁上。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115430654 A 3